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英特爾:明後年晶圓0.13微米應用達高峰

CNET新聞專區:張雅雲報導  2002/04/10

英特爾今(10)日發表有關企業產品製造狀況表示,目前英特爾晶圓廠具備即時支援能力,而且已經具備90奈米研發生產技術,未來晶圓廠產能利用會先以處理器為主,並進一步推展到無線通訊、快閃記憶體生產上,而2003~2004年將是0.13微米製程生產高峰。

英特爾策略溝通經理暨技術媒體關係事業群經理高沃德(Howard I.High)表示,英特爾在半導體技術上,具備了生產規模、彈性快速支援能力及有效運籌能力,具有晶圓大量生產製造實力,且具備投資及創新技術能力,提供全球企業最新技術支援,目前全球有17個生產研發製造基地,提供大量晶圓生產供應。

同時,根據英特爾發表的生產趨勢表示,2002年大部分晶片產品仍然是以0.18微米技術生產,但2002~2005年0.13製程應用上開始逐漸成長,Howard I.High說,過去0.6微米技術從1993∼2000年長達7年,但隨著技術進步,目前0.18製程並未縮短應用時間,應用約從1999~2005年。

而英特爾預估2003~2004年將會是0.13μm(微米)製程的應用高峰時期,英特爾主要用於生產基本邏輯元件像:處理器、晶片組及快閃記憶體等產品,舉例來說,英特爾會利用最佳化的原則,彈性使用每個生產基地,也可以將加州產品,搬到愛爾蘭生產,快速供應的市場需求。

另外,英特爾強調針對台積電目前擁有的90奈米先進技術,英特爾也可以提供12吋廠300mm晶圓生產支援,將比TSMC省40%的體積,英特爾規劃今年第二季、第四季D1C、F11X兩處生產基地將陸續投入0.13微米晶圓製造,預計年底共有6處生產基地投入0.13微米行列。

目前TI、AMD及台灣台積電、聯電生產製造都在轉換為12吋晶圓廠同時,300mm晶圓將成為未來數年的主力產品,在12吋晶圓廠可以提供直徑300mm的晶圓(die),體積將比過去200mm大240%、成本可以節省50%,Howard I.High表示,英特爾將是自動化生產上的技術領先者,除提供彈性生產量外,英特爾對生產不斷投資,使產能上升,還有隨時轉換生產基地使用的彈性生產方式,可以在幾天內提供產品出來。




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